株式会社
PARAM
ご挨拶
代表取締役社長 安田 洋
当社は、電子ビームを用いたウェハ直接描画とマスク描画に使用する並列型マルチコラム・
マルチビー ムを用いた高速電子ビーム描画用の要素技術開発および技術コンサルタント
会社であり、微細加 工技術を通して社会に貢献できることを目指しております。
近年光加工技術および側壁デポによる微細加工技術は20nmに迫る勢いで進歩しており
ます。電子ビームを用いた配線カッティング技術やホー ル形成技術は今後ますます強まる
微細化要求の上で電子ビームに適した技術分野であります。
これら の応用を目指した必要要素技術を開発して参ります。
技術としては永久磁石を用いたマルチコラム技術・高輝度均一照射長寿命電子銃・高精
密機構技術/プログラマブル形状可変ビーム（PSB)などの コア技術開発を通してLSIデバ
イスの発展に寄与する ことで社会の利益に貢献できれば幸甚でござい ます。
皆様のご賛同 ご支援をいただけますれば大変ありがたく存じます。
どうぞよろしく お願い申し上 げます。