当社は、電子ビームを用いたウェハ直接描画とマスク描画に使用する並列型マルチコラム・マルチビームを用いた高速電子ビーム描画用の要素技術開発をはじめ、電子ビーム描画装置技術コンサルタント会社であり、同装置の早期の実現と量産化を目指しております。
近年、光加工技術およびその他の微細加工技術は現在10nm付近にあり、数年後に7nmから5nmに迫る勢いで進歩しております。電子ビームを用いた配線カッティング技術やホール形成技術は今後ますます強まる微細化要求の上で電子ビームに適した応用分野であります。これらの適用を目指した必要な要素技術を 開発して参ります。
一方、世の中の一般的な要求をまとめますと、必ずしも先端微細化技術を必要せず、平坦化プロセスも適用できない、MEMS・IoT用・アナログIC・各種センサー混載ICなど様々なデバイスを生産することも必要とされています。また、NIL用をはじめ種々のマスク作成も必要となっております。さらに、人工知能AIチップに必要な、ニューラルネットワーク類似の、FPGAとMPUを搭載する5nm 以下のLSIなどにも使用の可能性があります。電子ビームの応用用途は、非微細・微細を問わず少量・中量多品種のデバイスに至る多岐に渡る応用分野で現実的な解であり、早期実用化を強く望まれていることを実感しております。弊社の技術は永久磁石を用いた細径コラムを100本束ねて描画することでEBの限界を決めるクーロン効果ボケという限界を打破します。EBは確実な原理原則に基づいて、システムの安定稼働とコストダウンを達成することができる技術であります。
永久磁石を用いたマルチコラム技術・高輝度均一照射長寿命電子銃・プログラマブル形状可変ビーム（PSB)などのコア技術開発と、デバイス開発製造を通して社会の発展に貢献できれば幸甚でございます。
各種電子ビームコラム技術、電子ビーム関連技術でもご愛顧を賜りますよう、どうぞよろしくお願い申し上げます。
株式会社PARAM
代表取締役社長 安田 洋
